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Plasma Chemistry And Plasma Processing
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Plasma Chemistry And Plasma Processing SCIE

等離子化學(xué)和等離子處理雜志

中科院分區(qū)：3區(qū) JCR分區(qū)：Q2 預(yù)計(jì)審稿周期： 較慢,6-12周

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》是一本由Springer US出版商出版的物理與天體物理國(guó)際刊物，國(guó)際簡(jiǎn)稱(chēng)為PLASMA CHEM PLASMA P，中文名稱(chēng)等離子化學(xué)和等離子處理。該刊創(chuàng)刊于1981年，出版周期為Quarterly。 《Plasma Chemistry And Plasma Processing》2023年影響因子為2.6，被收錄于國(guó)際知名權(quán)威數(shù)據(jù)庫(kù)SCIE。

ISSN：0272-4324
研究方向：工程技術(shù)-工程：化工
是否預(yù)警：否
E-ISSN：1572-8986
出版地區(qū)：UNITED STATES
Gold OA文章占比：14.18%
語(yǔ)言：English
是否OA：未開(kāi)放
OA被引用占比：0.0820...
出版商：Springer US
出版周期：Quarterly
影響因子：2.6
創(chuàng)刊時(shí)間：1981
年發(fā)文量：123
雜志簡(jiǎn)介 中科院分區(qū) JCR分區(qū) CiteScore 發(fā)文統(tǒng)計(jì) 通訊方式 相關(guān)雜志 期刊導(dǎo)航

Plasma Chemistry And Plasma Processing 雜志簡(jiǎn)介

《Plasma Chemistry And Plasma Processing》重點(diǎn)專(zhuān)注發(fā)布工程技術(shù)-工程：化工領(lǐng)域的新研究，旨在促進(jìn)和傳播該領(lǐng)域相關(guān)的新技術(shù)和新知識(shí)。鼓勵(lì)該領(lǐng)域研究者詳細(xì)地發(fā)表他們的高質(zhì)量實(shí)驗(yàn)研究和理論結(jié)果。該雜志創(chuàng)刊至今，在工程技術(shù)-工程：化工領(lǐng)域，有較高影響力，對(duì)來(lái)稿文章質(zhì)量要求較高，稿件投稿過(guò)審難度較大。歡迎廣大同領(lǐng)域研究者投稿該雜志。

Plasma Chemistry And Plasma Processing 雜志中科院分區(qū)

中科院SCI分區(qū)數(shù)據(jù)
中科院SCI期刊分區(qū)（2023年12月升級(jí)版）
大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
物理與天體物理 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 否 否
中科院SCI期刊分區(qū)（2022年12月升級(jí)版）
大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 否 否
中科院SCI期刊分區(qū)（2021年12月舊的升級(jí)版）
大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 否 否
中科院SCI期刊分區(qū)（2021年12月基礎(chǔ)版）
大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 4區(qū) 3區(qū) 2區(qū) 否 否
中科院SCI期刊分區(qū)（2021年12月升級(jí)版）
大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 否 否
中科院SCI期刊分區(qū)（2020年12月舊的升級(jí)版）
大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程：化工 PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 否 否
中科院分區(qū)趨勢(shì)圖
影響因子趨勢(shì)圖

中科院JCR分區(qū)：中科院JCR期刊分區(qū)（又稱(chēng)分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù)）是中國(guó)科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心世界科學(xué)前沿分析中心的科學(xué)研究成果，是衡量學(xué)術(shù)期刊影響力的一個(gè)重要指標(biāo)，一般而言，發(fā)表在1區(qū)和2區(qū)的SCI論文，通常被認(rèn)為是該學(xué)科領(lǐng)域的比較重要的成果。

影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報(bào)告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國(guó)際上通用的期刊評(píng)價(jià)指標(biāo)，不僅是一種測(cè)度期刊有用性和顯示度的指標(biāo)，而且也是測(cè)度期刊的學(xué)術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。

Plasma Chemistry And Plasma Processing 雜志JCR分區(qū)

Web of Science 數(shù)據(jù)庫(kù)（2023-2024年最新版）
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科：ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q3 91 / 170

46.8%
學(xué)科：PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 81 / 179

55%
學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 12 / 40

71.3%
按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科：ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q2 55 / 171

68.13%
學(xué)科：PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 69 / 179

61.73%
學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 17 / 40

58.75%

Plasma Chemistry And Plasma Processing CiteScore 評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)（2024年最新版）

  • CiteScore：5.9
  • SJR：0.48
  • SNIP：0.912

CiteScore 排名

學(xué)科類(lèi)別 分區(qū) 排名 百分位
大類(lèi)：Physics and Astronomy 小類(lèi)：Condensed Matter Physics Q1 108 / 434

75%
大類(lèi)：Physics and Astronomy 小類(lèi)：Surfaces, Coatings and Films Q2 34 / 132

74%
大類(lèi)：Physics and Astronomy 小類(lèi)：General Chemical Engineering Q2 79 / 273

71%
大類(lèi)：Physics and Astronomy 小類(lèi)：General Chemistry Q2 119 / 408

70%
CiteScore趨勢(shì)圖
年發(fā)文量趨勢(shì)圖

CiteScore：是由Elsevier2016年發(fā)布的一個(gè)評(píng)價(jià)學(xué)術(shù)期刊質(zhì)量的指標(biāo)，該指標(biāo)是指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScore和影響因子的作用是一樣的，都是可以體現(xiàn)期刊質(zhì)量的重要指標(biāo)，給選刊的作者了解期刊水平提供幫助。

Plasma Chemistry And Plasma Processing 雜志發(fā)文統(tǒng)計(jì)

文章名稱(chēng)引用次數(shù)

  • Effect of Cold Atmospheric Pressure Plasma on Maize Seeds: Enhancement of Seedlings Growth and Surface Microorganisms Inactivation23
  • Cold Atmospheric Pressure Plasma Can Induce Adaptive Response in Pea Seeds14
  • Inactivation of Shewanella putrefaciens by Plasma Activated Water13
  • Seed Priming with Non-thermal Plasma Modified Plant Reactions to Selenium or Zinc Oxide Nanoparticles: Cold Plasma as a Novel Emerging Tool for Plant Science13
  • Stimulation of the Germination and Early Growth of Tomato Seeds by Non-thermal Plasma12
  • Evaluation of Oxidative Species in Gaseous and Liquid Phase Generated by Mini-Gliding Arc Discharge12
  • Non-thermal Plasma Induced Expression of Heat Shock Factor A4A and Improved Wheat (Triticum aestivum L.) Growth and Resistance Against Salt Stress11
  • Effect of the Magnetic Field on the Magnetically Stabilized Gliding Arc Discharge and Its Application in the Preparation of Carbon Black Nanoparticles9
  • On the Possibilities of Straightforward Characterization of Plasma Activated Water8
  • Plasma Activated Organic Fertilizer8

國(guó)家/地區(qū)發(fā)文量

  • CHINA MAINLAND70
  • Russia37
  • USA29
  • France26
  • GERMANY (FED REP GER)21
  • Czech Republic15
  • Iran14
  • India12
  • Japan12
  • Poland11

機(jī)構(gòu)發(fā)文發(fā)文量

  • RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCES24
  • CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS)21
  • CZECH ACADEMY OF SCIENCES10
  • XI'AN JIAOTONG UNIVERSITY10
  • CHINESE ACADEMY OF SCIENCES9
  • DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY9
  • COMENIUS UNIVERSITY BRATISLAVA7
  • IVANOVO STATE UNIVERSITY OF CHEMISTRY & TECHNOLOGY7
  • STATE UNIVERSITY SYSTEM OF FLORIDA7
  • KOREA UNIVERSITY6

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