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Ieee Photonics Technology Letters
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Ieee Photonics Technology Letters SCIE

IEEE 光子技術(shù)快報(bào)雜志

中科院分區(qū):3區(qū) JCR分區(qū):Q2 預(yù)計(jì)審稿周期: 約2.0個(gè)月

《Ieee Photonics Technology Letters》是一本由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商出版的工程技術(shù)國(guó)際刊物,國(guó)際簡(jiǎn)稱為IEEE PHOTONIC TECH L,中文名稱IEEE 光子技術(shù)快報(bào)。該刊創(chuàng)刊于1989年,出版周期為Monthly。 《Ieee Photonics Technology Letters》2023年影響因子為2.3,被收錄于國(guó)際知名權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE。

ISSN:1041-1135
研究方向:工程技術(shù)-工程:電子與電氣
是否預(yù)警:否
E-ISSN:1941-0174
出版地區(qū):UNITED STATES
Gold OA文章占比:16.15%
語言:English
是否OA:未開放
OA被引用占比:0
出版商:Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.
出版周期:Monthly
影響因子:2.3
創(chuàng)刊時(shí)間:1989
年發(fā)文量:359
雜志簡(jiǎn)介 中科院分區(qū) JCR分區(qū) CiteScore 發(fā)文統(tǒng)計(jì) 通訊方式 相關(guān)雜志 期刊導(dǎo)航

Ieee Photonics Technology Letters 雜志簡(jiǎn)介

《Ieee Photonics Technology Letters》重點(diǎn)專注發(fā)布工程技術(shù)-工程:電子與電氣領(lǐng)域的新研究,旨在促進(jìn)和傳播該領(lǐng)域相關(guān)的新技術(shù)和新知識(shí)。鼓勵(lì)該領(lǐng)域研究者詳細(xì)地發(fā)表他們的高質(zhì)量實(shí)驗(yàn)研究和理論結(jié)果。該雜志創(chuàng)刊至今,在工程技術(shù)-工程:電子與電氣領(lǐng)域,有較高影響力,對(duì)來稿文章質(zhì)量要求較高,稿件投稿過審難度較大。歡迎廣大同領(lǐng)域研究者投稿該雜志。

Ieee Photonics Technology Letters 雜志中科院分區(qū)

中科院SCI分區(qū)數(shù)據(jù)
中科院SCI期刊分區(qū)(2023年12月升級(jí)版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2022年12月升級(jí)版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月舊的升級(jí)版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月基礎(chǔ)版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 4區(qū) 3區(qū) 4區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2021年12月升級(jí)版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院SCI期刊分區(qū)(2020年12月舊的升級(jí)版)
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
中科院分區(qū)趨勢(shì)圖
影響因子趨勢(shì)圖

中科院JCR分區(qū):中科院JCR期刊分區(qū)(又稱分區(qū)表、分區(qū)數(shù)據(jù))是中國(guó)科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心世界科學(xué)前沿分析中心的科學(xué)研究成果,是衡量學(xué)術(shù)期刊影響力的一個(gè)重要指標(biāo),一般而言,發(fā)表在1區(qū)和2區(qū)的SCI論文,通常被認(rèn)為是該學(xué)科領(lǐng)域的比較重要的成果。

影響因子:是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報(bào)告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù),現(xiàn)已成為國(guó)際上通用的期刊評(píng)價(jià)指標(biāo),不僅是一種測(cè)度期刊有用性和顯示度的指標(biāo),而且也是測(cè)度期刊的學(xué)術(shù)水平,乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。

Ieee Photonics Technology Letters 雜志JCR分區(qū)

Web of Science 數(shù)據(jù)庫(2023-2024年最新版)
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 175 / 352

50.4%

學(xué)科:OPTICS SCIE Q2 51 / 119

57.6%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 100 / 179

44.4%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q2 159 / 354

55.23%

學(xué)科:OPTICS SCIE Q2 53 / 120

56.25%

學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 72 / 179

60.06%

Ieee Photonics Technology Letters CiteScore 評(píng)價(jià)數(shù)據(jù)(2024年最新版)

  • CiteScore:5
  • SJR:0.684
  • SNIP:0.988

CiteScore 排名

學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 261 / 797

67%

大類:Engineering 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q2 75 / 224

66%

大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q2 95 / 284

66%

CiteScore趨勢(shì)圖
年發(fā)文量趨勢(shì)圖

CiteScore:是由Elsevier2016年發(fā)布的一個(gè)評(píng)價(jià)學(xué)術(shù)期刊質(zhì)量的指標(biāo),該指標(biāo)是指期刊發(fā)表的單篇文章平均被引用次數(shù)。CiteScore和影響因子的作用是一樣的,都是可以體現(xiàn)期刊質(zhì)量的重要指標(biāo),給選刊的作者了解期刊水平提供幫助。

Ieee Photonics Technology Letters 雜志發(fā)文統(tǒng)計(jì)

文章名稱引用次數(shù)

  • On the Performance of MIMO-NOMA-Based Visible Light Communication Systems34
  • Graphene Sensor Based on Surface Plasmon Resonance for Optical Scanning24
  • Monolithic Red/Green/Blue Micro-LEDs With HBR and DBR Structures20
  • A VLC Smartphone Camera Based Indoor Positioning System20
  • 1.3-mu m Reflection Insensitive InAs/GaAs Quantum Dot Lasers Directly Grown on Silicon17
  • Active Matrix Monolithic LED Micro-Display Using GaN-on-Si Epilayers16
  • Polarization Beam Splitter Based on MMI Coupler With SWG Birefringence Engineering on SOI15
  • Plasmonic Refractive Index Sensor Employing Niobium Nanofilm on Photonic Crystal Fiber15
  • Black Phosphorus: A New Platform for Gaseous Sensing Based on Surface Plasmon Resonance14
  • Toward the Integration of CV Quantum Key Distribution in Deployed Optical Networks14

國(guó)家/地區(qū)發(fā)文量

  • CHINA MAINLAND699
  • USA183
  • Canada74
  • GERMANY (FED REP GER)72
  • England69
  • India69
  • Japan68
  • South Korea57
  • France46
  • Italy43

機(jī)構(gòu)發(fā)文發(fā)文量

  • CHINESE ACADEMY OF SCIENCES100
  • HUAZHONG UNIVERSITY OF SCIENCE & TECHNOLOGY54
  • INDIAN INSTITUTE OF TECHNOLOGY SYSTEM (IIT SYSTEM)39
  • SHANGHAI JIAO TONG UNIVERSITY39
  • ZHEJIANG UNIVERSITY31
  • CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS)29
  • TSINGHUA UNIVERSITY25
  • NANJING UNIVERSITY23
  • IMEC22
  • UNIVERSITY OF ELECTRONIC SCIENCE & TECHNOLOGY OF CHINA22

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