Ars Bilduma SCIE

藝術(shù)收藏雜志

預(yù)計審稿周期： 10 Weeks

《Ars Bilduma》是一本由UPV/EHU Press出版商出版的國際刊物，國際簡稱為ARS BILDUMA，中文名稱藝術(shù)收藏。出版周期為。《Ars Bilduma》2023年影響因子為0.1，被收錄于國際知名權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE。

ISSN：1989-9262

研究方向：ART

是否預(yù)警：否

出版地區(qū)：Spain

Gold OA文章占比：91.67%

語言：Spanish、Basque

是否OA：開放

出版商：UPV/EHU Press

影響因子：0.1

年發(fā)文量：6

雜志簡介 JCR分區(qū)

《Ars Bilduma》重點專注發(fā)布ART領(lǐng)域的新研究，旨在促進(jìn)和傳播該領(lǐng)域相關(guān)的新技術(shù)和新知識。鼓勵該領(lǐng)域研究者詳細(xì)地發(fā)表他們的高質(zhì)量實驗研究和理論結(jié)果。

Web of Science 數(shù)據(jù)庫（2023-2024年最新版）

按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)	收錄子集	分區(qū)	排名	百分位
學(xué)科：ART	ESCI	N/A	N / A	0%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)	收錄子集	分區(qū)	排名	百分位
學(xué)科：ART	ESCI	Q4	121 / 142	15.14%

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