《半導體技術(shù)》經(jīng)新聞出版總署批準,自1976年創(chuàng)刊,國內(nèi)刊號為13-1109/TN,本刊積極探索、勇于創(chuàng)新,欄目設(shè)置及內(nèi)容節(jié)奏經(jīng)過編排與改進,受到越來越多的讀者喜愛。
《半導體技術(shù)》以嚴謹風格,權(quán)威著述,在業(yè)內(nèi)深孚眾望,享譽中外,對我國半導體事業(yè)的發(fā)展發(fā)揮了積極的作用。
雜志簡介:《半導體技術(shù)》雜志經(jīng)新聞出版總署批準,自1976年創(chuàng)刊,國內(nèi)刊號為13-1109/TN,是一本綜合性較強的電子期刊。該刊是一份月刊,致力于發(fā)表電子領(lǐng)域的高質(zhì)量原創(chuàng)研究成果、綜述及快報。主要欄目:趨勢與展望、半導體集成電路、半導體器件、半導體制備技術(shù)、先進封裝技術(shù)
《半導體技術(shù)》經(jīng)新聞出版總署批準,自1976年創(chuàng)刊,國內(nèi)刊號為13-1109/TN,本刊積極探索、勇于創(chuàng)新,欄目設(shè)置及內(nèi)容節(jié)奏經(jīng)過編排與改進,受到越來越多的讀者喜愛。
《半導體技術(shù)》以嚴謹風格,權(quán)威著述,在業(yè)內(nèi)深孚眾望,享譽中外,對我國半導體事業(yè)的發(fā)展發(fā)揮了積極的作用。
《半導體技術(shù)》雜志學者發(fā)表主要的研究主題主要有以下內(nèi)容:
(一)化學機械拋光;CMP;拋光液;去除速率;ULSI
(二)BICMOS;超大規(guī)模集成電路;雙極互補金屬氧化物半導體;功耗;低功耗
(三)微波單片集成電路;MMIC;砷化鎵;寬帶;單片微波集成電路
(四)肖特基二極管;氧化鎵;場效應(yīng)晶體管;金剛石;襯底
(五)砷化鎵;GAAS;太陽電池;磷化銦;半絕緣
(六)砷化鎵;MMIC;微波單片集成電路;功率放大器;毫米波
(七)GAN;微波器件;SIC_MESFET;MMIC;碳化硅
(八)GAN;高電子遷移率晶體管;MEMS;HEMT;MMIC
(九)BICMOS;超大規(guī)模集成電路;功耗;開關(guān)電源;教學改革
(十)知識生產(chǎn);半導體;集成電路;技術(shù)創(chuàng)新;工業(yè)工程
1、來稿要求論點明確、論據(jù)可靠、文字精煉、圖表清晰、行文通順、體例規(guī)范,內(nèi)容注意保守國家機密。
2、文中如出現(xiàn)外國人名,第一次出現(xiàn)時需譯成漢語,用括號標注外文原名,以后出現(xiàn)時直接用漢譯人名。
3、“一”后加“、”號,“l(fā)”后加“.”,(一)、(l)不加任何標點,‘第一”、‘首先”后面均要加“,”號。
4、引用文獻作者不超過3人的全部著錄;超過則只列出前3人,后加“,等.”。
5、作者簡介包括以下內(nèi)容:真實姓名、出生年份、性別、籍貫、職稱、專業(yè)學位和研究方向。
立即指數(shù):立即指數(shù) (Immediacy Index)是指用某一年中發(fā)表的文章在當年被引用次數(shù)除以同年發(fā)表文章的總數(shù)得到的指數(shù);該指數(shù)用來評價哪些科技期刊發(fā)表了大量熱點文章,進而能夠衡量該期刊中發(fā)表的研究成果是否緊跟研究前沿的步伐。
引證文獻:又稱來源文獻,是指引用了某篇文章的文獻,是對本文研究工作的繼續(xù)、應(yīng)用、發(fā)展或評價。這種引用關(guān)系表明了研究的去向,經(jīng)過驗證,引證文獻數(shù)等于該文獻的被引次數(shù)。引證文獻是學術(shù)論著撰寫中不可或缺的組成部分,也是衡量學術(shù)著述影響大小的重要因素。
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