雜志簡介：《電子工業(yè)專用設備》雜志經(jīng)新聞出版總署批準，自1971年創(chuàng)刊，國內刊號為62-1077/TN，是一本綜合性較強的電子期刊。該刊是一份雙月刊，致力于發(fā)表電子領域的高質量原創(chuàng)研究成果、綜述及快報。主要欄目：先進封裝技術與設備、半導體制造工藝與設備、電子專用設備研究、專用設備維護與保養(yǎng)
《電子工業(yè)專用設備》經(jīng)新聞出版總署批準，自1971年創(chuàng)刊，國內刊號為62-1077/TN，本刊積極探索、勇于創(chuàng)新，欄目設置及內容節(jié)奏經(jīng)過編排與改進，受到越來越多的讀者喜愛。
《電子工業(yè)專用設備》為《中國科技論文統(tǒng)計》和《中國電子科技文摘》用刊，同時是《中國學術期刊（光盤版）》、中國期刊網(wǎng)、萬方 資源系統(tǒng)（ChinaInfo）數(shù)字化期刊網(wǎng)及北極星網(wǎng)站全文收錄期刊。
《電子工業(yè)專用設備》雜志學者發(fā)表主要的研究主題主要有以下內容：
（一）光學光刻；集成電路；光刻；硅；CMP
（二）表面貼裝技術；SMT；貼片機；波峰焊；SMT生產(chǎn)
（三）半導體產(chǎn)業(yè)；半導體；半導體設備；銅互連；應變硅技術
（四）CMP；化學機械拋光；化學機械平坦化；拋光液；半導體材料
（五）半導體器件；刻蝕；MEMS；溝道；焦平面陣列
（六）機器人；冗余度機器人；料器；球磨機；回轉誤差
（七）CMP；化學機械平坦化；化學機械拋光；拋光液；拋光墊
（八）X射線光刻；溝道；半導體器件；版圖；襯底
（九）單晶片；鍺；拋光片；晶片；表面粗糙度
（十）晶圓；直線電機；激光加工；伺服控制；ETHERCAT
1、文題：要求簡潔、明了，準確反映論文的內容，一般不超過20個字。
2、應具有科學性、實用性、邏輯性，論點明確，資料可靠，文字精煉，層次清楚，數(shù)據(jù)準確，必要時應做統(tǒng)計學處理。
3、摘要文字量50～300字。試驗研究和專題研究類論文，應寫成報道性摘要。
4、作者簡介，包括出生年、性別、職稱或學位、研究方向。置于篇首頁地腳。
5、在參考文獻表中：作者不超過3個的姓名都寫，超過3個的，余者寫“，等”或“,etal”。
立即指數(shù)：立即指數(shù) (Immediacy Index)是指用某一年中發(fā)表的文章在當年被引用次數(shù)除以同年發(fā)表文章的總數(shù)得到的指數(shù)；該指數(shù)用來評價哪些科技期刊發(fā)表了大量熱點文章，進而能夠衡量該期刊中發(fā)表的研究成果是否緊跟研究前沿的步伐。
引證文獻：又稱來源文獻，是指引用了某篇文章的文獻，是對本文研究工作的繼續(xù)、應用、發(fā)展或評價。這種引用關系表明了研究的去向，經(jīng)過驗證，引證文獻數(shù)等于該文獻的被引次數(shù)。引證文獻是學術論著撰寫中不可或缺的組成部分，也是衡量學術著述影響大小的重要因素。
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