根據(jù)最新信息《International Journal Of Imaging Systems And Technology》期刊在JCR分區(qū)中的排名如下：
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名136 / 352，百分位61.5%；IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名16 / 36，百分位56.9%；OPTICS，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名39 / 119，百分位67.6%；按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)在學(xué)科為ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名138 / 354，百分位61.16%IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名14 / 36，百分位62.5%OPTICS，收錄子集：SCIE，位于Q2區(qū)，排名46 / 120，百分位62.08%。
投稿咨詢| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 136 / 352 |
61.5% |
| 學(xué)科：IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY | SCIE | Q2 | 16 / 36 |
56.9% |
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q2 | 39 / 119 |
67.6% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 138 / 354 |
61.16% |
| 學(xué)科：IMAGING SCIENCE & PHOTOGRAPHIC TECHNOLOGY | SCIE | Q2 | 14 / 36 |
62.5% |
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q2 | 46 / 120 |
62.08% |
這表明該刊在工程：電子與電氣領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)影響力和認(rèn)可度。此外，該刊創(chuàng)刊時(shí)間：1989年，影響因子：3，出版周期：Bimonthly、出版商：John Wiley and Sons Inc.以及收錄情況等信息也為其學(xué)術(shù)影響力提供了有力支持。
影響因子：是湯森路透(Thomson Reuters)出品的期刊引證報(bào)告(Journal Citation Reports,JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù)，現(xiàn)已成為國(guó)際上通用的期刊評(píng)價(jià)指標(biāo)，不僅是一種測(cè)度期刊有用性和顯示度的指標(biāo)，而且也是測(cè)度期刊的學(xué)術(shù)水平，乃至論文質(zhì)量的重要指標(biāo)。
聲明：以上信息摘自網(wǎng)絡(luò)公開(kāi)資料，如有不準(zhǔn)確，請(qǐng)聯(lián)系我們。
影響因子：3
大類學(xué)科：計(jì)算機(jī)科學(xué)
中科院：4區(qū)